Loading...

トライオテック

長岡市,  新潟県 
Japan
  • 小間番号3722


トライオテック株式会社は、国産の半導体製造装置を提供し、皆様の生産性向上に寄与いたします。

今回初出展で40~28㎚対応の国産PE-CVD装置『TF-300T』実機の約1/8スケール模型を展示致します。優れたコストパフォーマンスと性能で、14~5㎚テクノロジーへの拡張も可能です。次世代集積回路の製造に革新をもたらす、未来志向の装置です。


 プレスリリース

  • 今回初出展のトライオテックは、2種類のPE-CVD装置をラインナップしています。
    300mm装置「TF-300T」の約1/8スケールの模型を展示しています。

     

    ■TF-150T -仕様説明-
    ・自社開発による先進的な制御プログラム
    ・独自のプラットフォームにより世界トップクラスの生産性を実現
    ・1億5千万回の搬送実績のある高い安定性
    ・Device-netによる優れた通信機能
    ・6” and 8” コンパチブル
    ・Si wafer and SiC wafer コンパチブル
    ・High-quality SiO, SiN, TEOS and BPTEOS films
    ・SEMI S2 F47 認証

    ■TF-300T -仕様説明-
    優れた薄膜均一性と低欠陥
    ・ESCオプション付きセラミックヒーター
    ・新型ガスラインヒーター
    ・ミニマム コンタクトウェハ搬送ロボット
    ・0.026umパーティクルコントロール
    優れたプロセス制御能力と再現性
    ・RF電源とマッチングの高速化
    ・独立したガス絶縁設計
    ・フレキシブルな共通ガスボックス
    高温プロセス能力(最大650℃まで)
    先進膜用プロセスキット
    (a-Si、ACHMカーボン、HTN、Low-k、ADC)
    SEMI S2 F47 認証

    ■安心の日本国内生産


 出展製品

  • TF-300T
    300mm, SiCウエハ対応 国内製造のPE-CVD装置 約1/8スケールの装置模型を展示中です。...

  • 優れた薄膜均一性と低欠陥
    ・ESCオプション付きセラミックヒーター
    ・新型ガスラインヒーター
    ・ミニマム コンタクトウェハ搬送ロボット
    ・0.026umパーティクルコントロール


    優れたプロセス制御能力と再現性
    ・RF電源とマッチングの高速化
    ・独立したガス絶縁設計
    ・フレキシブルな共通ガスボックス

    高温プロセス能力(最大650℃まで)

    先進膜用プロセスキット(a-Si、ACHMカーボン、HTN、Low-k、ADC)

    安心の国内製造で、充実したサポート体制