ハイデルベルグ・インストルメンツ

Heidelberg Instruments MLA 300 は、最小フィーチャ サイズ 1.5 µm までの解像度を持つ生産アプリケーション向けに最適化されたマスクレス リソグラフィー 装置です。マスクレス リソグラフィーの汎用性により、カスタム生産向けに迅速な設計カスタマイズが可能になり、各基板に独自の設計を施すこともできます。これは、たとえば、ダイ シフトを補正する高度なパッケージング アプリケーションで特に役立ちます。マスクレス露光装置の特徴としてダイに沿って連続的にラベリングの動的な追加と自動コード生成 (データ マトリックス コードなど) のパタニング露光も可能です。MLA 300 は、マスクの調達、検証、管理の要件が不要で、生産コストと時間当たりの労力を削減します。完全自動化とカスタマイズされたローダー オプションにより、生産ラインにシームレスに統合できます。長寿命の露光レーザーとより少ない消耗品を使用することで、運用コストが削減されます。モジュール性により、迅速なメンテナンス、交換、修理が可能になります。リアルタイムのオートフォーカスにより、基板の反りや波が補正され、完璧なパターン形成の露光がが実現します。

The Heidelberg Instruments MLA 300 is a maskless lithography system that is optimized for industrial production applications with a resolution down to 1.5 µm minimum feature size. The flexibility of maskless lithography allows rapid design customizations for custom production series, even up to unique designs on each substrate. This is of particular use e.g. for advanced packaging applications to compensate for die shift. Serialization is also possible with dynamic additions and automated code generation (e.g. data matrix codes). The MLA 300 reduces production costs and efforts by eliminating mask procurement, verification, and management requirements. It can be seamlessly integrated into production lines, with full automation and customized loader options. Operating costs are reduced by utilizing a long-lifetime exposure laser and fewer consumables. Modularity enables fast maintenance, replacement, or repair. Real-time autofocus compensates substrate warp or corrugations for flawless patterning.

DWL 4000 GS レーザー リソグラフィー システムは、高速で柔軟性の高い高解像度パターン ジェネレーターです。産業レベルのグレースケール リソグラフィーに最適化されており、集積回路、MEMS、マイクロ光学およびマイクロ流体デバイス、センサー、ホログラム、紙幣や ID カードのセキュリティ機能用のマスクとウェーハの高スループット パターン形成用に設計されています。

プロフェッショナル グレースケール リソグラフィー モードでは、広い領域にわたって厚いフォトレジストに複雑な 2.5D 構造をパターン形成できます。最小フィーチャ サイズ 500 nm、書き込み領域 400 mm x 400 mm、オプションの自動ローディング システムを備えた DWL 4000 GS システムは、通信、照明、産業用ディスプレイ製造に使用されるウェーハ レベルのマイクロ光学に特に適しています。

高精度で高解像度の微細構造を実現するマスクレス ダイレクト露光装置の VPG 300 DIです。VPG 300 DI は、i 線レジストに高解像度の微細構造を直接書き込むために特別に設計されたボリューム パターン ジェネレーターです。マスク作成ツールから由来しているこの装置は、最高の精度と正確さで書き込むことができるように、すべての高度な VPG+ システム コンポーネントを備えています。最大露光領域は 300 mm ウェーハをカバーします。

ULTRA 半導体マスク ライターは、高スループット、精度と構造の均一性、極めて正確なアライメントに必要なすべての機能を備えた経済的なマスク ライター ソリューションです。標準構成には、完全自動マスク処理、Zerodur® ステージ、低歪み光学系、高精度位置制御などの機能が含まれています。

ULTRA システムは、最大 580 mm²/分の書き込み速度で最小 500 nm の構造サイズを生成でき、優れた限界寸法の均一性、画像品質、オーバーレイ、およびレジストレーションを備えています。コンパクトなシステムであるため、既存のマスク ショップ インフラストラクチャに簡単に適合します。

ULTRA の主な利点は次のとおりです。

• 高精度で正確性を備えたコスト効率の高いソリューション: ULTRA は、優れた限界寸法の均一性と優れた画像品質を維持しながら、最小 500 nm の構造サイズを生成できます。

• 効率的な生産: 最大 580 mm²/分の書き込み速度を備えた ULTRA は、効率的で信頼性の高いマスク生産を保証します。

• シームレスな統合: コンパクトな設計により、既存のマスクショップ インフラストラクチャに簡単に統合できるため、機能の拡張やアップグレードを検討している半導体メーカーにとって理想的な選択肢となります。

• 高度な機能: 標準構成には、完全自動マスク処理、Zerodur® ステージ、低歪み光学系、高精度の位置制御が含まれており、最高レベルのパフォーマンスと信頼性を保証します。