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伯東

新宿区,  東京都 
Japan
http://www.hakuto.co.jp
  • 小間番号4513


伯東のブースへようこそ！

パワーデバイス、Si半導体、MEMS/センサ、マスク及びリソグラフィー、真空関連機器、LEDを含む化合物半導体関連のプロセス・検査・解析装置を実機、パネルにて紹介致します。また、受託分析サービスに関してもパネルにて紹介致します。

 出展製品

  • SEMICAT社 PVD装置 (Enduraリファブ装置)
    Semicat社は半導体・MEMS・LEDの製造工程に向けたプロセス装置の中古再生を専門とするリファービッシュ会社です。 アプライドマテリアルズ（AMAT）社のEndura®PVD（物理蒸着）システムに特化して市場展開しています。ライナーバリア・Alインターコネクト・ホットAlなど、Endura®プラットフォームで利用可能なすべてのPVDおよびCVD（化学蒸着）に対応し、 Endura®5500とEndura®II、どちらもリファービッシュ対応可能です。...

    • Semicat社は一般的なAS-IS、中古再生サービスのみの会社ではなく、通常は対応できない中古ご購入前のデモンストレーション、評価からご購入後のプロセス保証までを付帯させることで単なる中古再生サービスの枠を超えたサービスを提供します。デモ機を常設することで中古再生装置でありながらEndura®をお持ちでないお客様にも安心して購入、選定頂ける環境を整えています。また同社開発の高速圧膜Al用チャンバー"CoolKAT"は、Endura® platformで品質の良い厚膜Alを高速で成膜が可能なSemicat社オリジナルの厚膜Alプロセスチャンバーです。Endura®標準のAl用チャンバと比較しスパッタレート約2倍の高速成膜が可能で更にCOO（Cost Of Ownership）に優れ、ランニングコストの低減に寄与します。
  • セントロサーム社SiCパワー半導体向け高温活性化炉、酸窒化炉、RTP装置、Si300mm用横型拡散炉
    世界中に豊富な納入実績を誇る独・セントロサーム社のパワーデバイスの量産に最適な高温ファーネスをご紹介します。 SiC向けには8インチ対応の高温活性化炉、高温酸窒化炉、透明基板対応の高速ランプアニール装置に加えて、最高2200℃での処理が可能なバルク材料用高温熱処理炉をご紹介します。 また300㎜シリコン用には1200℃で800枚の同時処理が可能な横型拡散炉をご紹介します。...

    • 世界中に豊富な納入実績を誇る独・セントロサーム社のパワーデバイスの量産に最適な高温ファーネスをご紹介します。
    SiC向けには8インチ対応の高温活性化炉c.Activator200、高温酸窒化炉c.Oxidator200、透明基板対応の高速ランプアニール装置c.Rapid200に加えて、最高2200℃での処理が可能なバルク材料用高温熱処理炉c.Cryscoo-HTAをご紹介します。
    また300㎜シリコン用には1200℃で800枚の同時処理が可能な横型拡散炉c.Horicoo300をご紹介します。

Categories

203 装置、検査及び測定
  • ストレス：屈折率/反射率及び伝導率測定
  • リーク検出器－真空、またはガス
  • 欠陥/パーテクル/バンプ/汚染検出、評価、検査
  • 膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター
    • 205 装置、ナノテクノロジー
  • 装置/ナノテクノロジー機器
    • 207 装置、プロセス
  • 積層化：物理的位相成長 (PVD)/ スパッタ/蒸着装置
    • 401 サブシステム
  • ポンプ、真空用
    • 700 製造サービス
  • 不良解析及びその他解析サービス
  • 中古；レンタル装置、在庫低減化、鑑定評価-ブローカー/転売業者
  • 測定；検査サービス
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