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Particle Measuring Systems

Kawasaki,  Kanagawa 
Japan
https://pmeasuring.jp
  • Booth: E5431


最先端の半導体プロセスに対応したモニタリングソリューションをぜひご覧ください。

Without measurement there is no control®

Particle Measuring Systems partners with clean manufacturers around the world to help improve product yield and maintain process integrity.  We deliver contamination monitoring solutions for particles and molecules across air, gas, chemicals, and deionized water, along with active air microbial samplers.

We hope you can stop by and see our nano sensitivity products: 

We look forward to seeing you at Booth E5431.


 Press Releases

  • (20251015)

 Products

  • Ultra DI® 20 Plus 超純水用パーティクルカウンタ
    超純水のインラインモニタリングに最適化。20 nmのPSL粒子、9 nmのAu粒子を検出。冷却機構が装置内部で発生する熱を効率よく外部に放出するため、安定した高精度の測定、ひいては信頼性、再現性の高いデータの取得が可能。...

  • Ultra DI 20 Plus は、超純水のインラインモニタリングに最適化された光学式液中パーティクルカウンタです。流量75 ml/minで測定し、20 nmの微粒子(20 nmのPSL粒子、9 nmのAu粒子)を検出します。

    Ultra DI 20 Plus は冷却機構を搭載しており、装置内部で発生する熱を効率よく外部に放出します。そのため安定した精度の高い測定を実現し、信頼性、再現性の高いデータの取得が可能です。また、安定した内部温度は、レーザーを過度な劣化から守ります。メンテナンスとそれにかかるコストを軽減できることもUltra DI 20 Plus の強みです。

  • Chem 20™ 高純度薬液用パーティクルカウンタ
    高純度薬液のモニタリングに最適化。20 nmのPSL粒子、9 nmのAu粒子を検出。インライン測定にもバッチ測定にも対応。...

  • Chem 20は、半導体製造において洗浄などの工程で使用される薬液の清浄度管理に最適化された光学式液中パーティクルカウンタです。20 nmの微粒子(20 nm PSL粒子 / 9 nm Au粒子)を検出することができ、最先端の半導体製造に使用される高純度薬液に対応します。

    薬液供給システムに設置してインラインで常時モニタリングするために使用することも、専用のシリンジサンプラSLS-20(オプション)と組み合わせて、容器から薬液を直接吸入するバッチ測定にも使用できます。

  • NanoAir™ 10 凝縮型気中パーティクルカウンタ
    10 nm粒子の検出に対応。プロセス装置内などの局所クリーン空間のモニタリングに最適化。従来型OPCの扱いやすさを備えた凝縮型。...

  • NanoAir™ 10 は、より厳しい基準で管理される局所クリーン空間、特にウエハ搬送モジュール (EFEM) 内やプロセス装置内の常時モニタリングに最適化された凝縮型気中パーティクルカウンタです。流量2.8 LPMで測定し、粒径10 nmの微粒子を検出します。

    NanoAir 10は従来型の扱いやすさを備えた凝縮型パーティクルカウンタです。独自の凝縮制御機構 (特許出願中) により凝縮液は安定した状態に保たれ、24時間/365日フル稼働しても凝縮液の補充は15か月間必要ありません。年次校正の際に補充すれば、モニタリングの中断は最小限にとどまります。また、凝縮の過程で発塵することがないため、高い精度で測定結果が得られます。

    ローカル IPアドレスなど装置の設定情報は、取り外し可能なインターフェースユニットに保存されます。そのため、装置の入れ替えが必要なときには、インターフェースユニットを付け替えるだけでモニタリングを再開できます。

    多彩な入出力ポートを搭載しており、監視制御システムとの融和性が高く、またアプリケーションに応じて専用のマニホールド ParticleSeeker™を組み合わせたり、加圧ガスの測定を可能にする高圧ディフューザ HPD IIIを組み合わせて使用することができます。