EUV PODは、EUV（極端紫外線）リソグラフィ工程で使用される「EUVレチクル」を保護し、清浄な状態で搬送・保管・供給するための専用容器です。EUVリソグラフィは、微細な半導体回路を形成するために不可欠な技術で、PODはレチクルの損傷や微粒子付着を防ぎ、高品質な製品製造を支えています。
EUV PODの主な役割
保護:レチクルの外部環境からの汚染や損傷を防ぎます。
搬送と保管:クリーンな状態でレチクルを安全に搬送・保管するための容器です。
清浄性の確保:半導体製造工程での微粒子付着を防止し、露光装置へ供給する際も清浄な状態を保ちます。
EUV PODの特徴
特許取得済みの設計:特許取得済みのデュアルポッド設計は真空環境に対応し、レチクルを保護します。
高い清浄度で清浄性を高める工夫がされています。
規格準拠:SEMI規格に準拠しており、装置との相互運用性を最大化しています。
ペリクル対応:ペリクル（マスク保護膜）に対応した仕様があり、EOP（EUV Outer Pod）覗き窓で内部を確認できます。
特徴:
「OHT（Overhead Hoist Transport）」と呼ばれる自動搬送システムに対応しており、AMHSでの高速搬送をサポートします。
POD内部の温度・湿度を制御するパージ機能を備えています。