ニューフレアテクノロジー

横浜市磯子区新杉田町,  神奈川県 
Japan
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• 小間番号W2550

最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献します。をビジョンに当社製品を紹介します。

今年は、A14 Nodeデザインルール対応のマルチ電子ビームマスク描画 装置「MBM™-4000」、高生産性最先端マスク検査装置「NPI-8000」、高品質のエピタキ シャル層を形成するSiCエピタキシャル成長装置「EPIREVO™ S8」及び、各製品のロード マップをご紹介いたします。 

■マルチ電子ビームマスク描画装置

・MBM™ -4000：A14 Node デザインルール対応

・MBM™ -3000：2nm Node デザインルール対応

・MBM™ -2000PLUS：3nm+ Nodeデザインルール対応

・MBM™ -2000：3nm Node デザインルール対応

■電子ビームマスク描画装置

・EBM-9500PLUS：7nm+/5nm Nodeデザインルール対応

・EBM-9500：7nm Nodeデザインルール対応

・EBM-9000：10nm Nodeデザインルール対応

・EBM-8000P/H：16/14nm Node デザインルール対応

・EBM-8000P/M：45～20nm Nodeデザインルール対応

■マスク検査装置

・NPI-8000：10/7nm Node高生産性最先端マスク検査装置

・NPI-8000ML/W：120~14nm Node 高生産性ミドル/ワイドレンジマスク検査装置

■エピタキシャル成長装置

・EPIREVO™ S8：8インチウェーハ対応枚葉式SiCエピタキシャル成長装置

・EPIREVO™ G8：枚葉式GaN on Si MOCVD装置

 プレスリリース

• セミコン・ジャパン2025出展のご案内 (20251209)
  当社は、来る12月17日（水）から12月19日（金）まで、東京ビッグ サイトで開催されます『セミコン・ジャパン2025』に出展いたします。 当社は、「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献 します。」をビジョンに、A14 Nodeデザインルール対応のマルチ電子ビームマスク描画 装置「MBM™-4000」、高生産性最先端マスク検査装置「NPI-8000」、高品質のエピタキ シャル層を形成するSiCエピタキシャル成長装置「EPIREVO™ S8」及び、各製品のロード マップをご紹介いたします。 是非、当社ブースにお越し下さい。 

 出展製品