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東レ

中央区,  東京都 
Japan
https://www.semiconductor.toray/
  • 小間番号E4908


東レは「次の常識を創る半導体イノベーターの伴走者」として、素材・装置・分析の三位一体でイノベーション創出に貢献します

東レは創業以来、革新的な材料を創出し続け、社会に貢献してきました。半導体事業では、業界動向を俯瞰的に捉えながら、常に「次の常識」を産み出す技術提供に努めています。お客様の事業革新に、素材・装置・分析それぞれの観点から最適な提案を行い、課題解決に新たな視点で取り組み続けます。

東レブースでは、次世代高密度実装に必要な絶縁フィルムやコーティング材、PFASフリーの離型フィルム、糊残りの少ないダイシングフィルム、ウェーハ研磨パッド、摺動性やワイピング性に優れた不織布、帯電防止樹脂、金属やフッ素樹脂を代替できるPAI樹脂といった素材に加え、超純水製造や下廃水の回収・再利用に使われる高性能水処理膜、半導体製造装置等に使われる樹脂加工製品や精密金属加工製品をご紹介させていただきます。

お客様の用途・プロセスに適した材料や加工製品をご提案しておりますので、ぜひお気軽にご相談ください。


 プレスリリース

  • https://www.toray.co.jp/news/article.html?contentId=o8hk0isn

    2025年12月3日

    東レ株式会社

    「SEMICON Japan 2025」への出展について

    東レ株式会社(本社:東京都中央区、代表取締役社長:大矢 光雄、以下「東レ」)は、このたび、東京ビッグサイトで12月17日(水)~19日(金)に開催される「SEMICON Japan 2025」(主催:SEMI)に、グループ会社の東レエンジニアリング株式会社、東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社、東レ・プレシジョン株式会社、株式会社東レリサーチセンターと共同出展します。

    東レグループは、「次の常識を創る、半導体イノベーターの伴走者」を掲げ、半導体製造工程で使用される素材、装置、分析サービスを三位一体で提供し、イノベーション創出に貢献しています。本年のブースでは、東レグループの幅広い製品群の中から、半導体関連の製品・技術を総合的に紹介します。

    展示内容は、素材関連では、独自のポリイミド技術によるコーティング材や感光性接着フィルム、PFASフリーのモールド離型フィルム、ダイシングフィルムなどを展示します。また、研磨用パッド、クリーンルーム用ワイピングクロス、半導体製造装置用の各種樹脂素材を紹介します。さらに超純水の製造、半導体製造工程から排出される有価物回収や廃水減容に貢献する各種水処理膜を展示します。

    装置関連では、東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジーのウェーハ外観検査装置、東レ・プレシジョンの半導体製造・検査工程を支える精密加工技術を展示します。

    分析サービス関連では、東レリサーチセンターの最先端半導体デバイス対応分析技術などを紹介します。

    東レは、「高分子化学」、「有機合成化学」、「バイオテクノロジー」そして「ナノテクノロジー」の4つのコア技術を駆使して、社会を本質的に変える力のある革新的な素材の研究・技術開発を推進することで、企業理念である「わたしたちは新しい価値の創造を通じて社会に貢献します」の具現化に取り組んでまいります。

    1.展示ブースの概要

    (1)出展場所:

    東京ビッグサイト 東展示棟 小間番号E4908番(APCSエリア)

    2)出展内容:

    A.素材

    1. 工業用高機能不織布 エクセーヌ®
    1. クリーンルーム用ワイピングクロス
    2. ウェーハ用精密研磨パッド
    3. 持続性帯電防止ABS樹脂 トヨラックパレル®
    4. 導電・帯電防止樹脂 TPS-AE
    5. 東レPAI樹脂 “TIポリマー”
    6. 半導体製造装置向けPPS造形物
    7. 半導体製造装置向けプラスチック素材
    8. 半導体モールド用離型フィルム
    9. 自己粘着性オレフィン系感圧ダイシングフィルム
    10. ポリイミド製品(コーティング材、感光性接着剤フィルム)
    11. 先端半導体実装用材料(開発品)
    12. 厚膜×ハイアスペクト材料
    13. 半導体向け仮貼り材料*

    B.装置

    1. ウェーハ外観検査装置(光学式、電子線式)
    2. 半導体製造・検査工程を支える精密加工技術

    C.水処理フィルター

    1. 超純水向け高除去逆浸透(RO)膜
    2. 有価物の回収、廃水減容に貢献する限外ろ過(UF)膜、ナノろ過(NF)膜

     

    D.分析サービス

    1. 組成分析、構造分析、不良解析

    (ご参考)

    東レ半導体事業ウェブサイト https://www.semiconductor.toray/

    「SEMICON Japan 2025」公式サイト https://www.semiconjapan.org/jp


    *2025/11/27 プレースリリース

     半導体ウェハの薄膜化に対応した新規仮貼り材料を開発

     https://www.toray.co.jp/news/article.html?contentId=2s33gucj

    <本件に関するお問い合わせ先>

    東レ株式会社 事業コミュニケーション室 (キム) 080-8428-3993

    以 上
     

    <本件に関するお問い合わせ先>

    東レ株式会社 広報室 (東京)TEL:03-3245-5179 (大阪)TEL:06-7688-3085

    <本件に関するお問い合わせ先>

    東レ株式会社 広報室 (東京)TEL:03-3245-5179 (大阪)TEL:06-7688-3085

    <本件に関するお問い合わせ先>

    東レ株式会社 広報室 (東京)TEL:03-3245-5179 (大阪)TEL:06-7688-3085

  • https://www.toray.com/news/article.html?contentId=zpbftk1k

    Toray to Exhibit at SEMICON Japan 2025

    Tokyo, Japan, December 3, 2025 – Toray Industries, Inc., announced today that it will exhibit at SEMICON Japan 2025 with group companies Toray Engineering Co., Ltd., TASMIT, Inc., Toray Precision Co., Ltd., and Toray Research Center, Inc. Microelectronics industry association SEMI will host this event at Tokyo Big Sight from Wednesday, December 17, to Friday, December 19.

    The Toray Group partners semiconductor innovators that are transforming the world. It helps them by providing integrated materials, equipment, and analytical services solutions. This year’s booth will showcase the Group’s diverse semiconductor-related products and technologies.

    Toray exhibits will include such materials as coating materials and photosensitive adhesive films employing proprietary polyimide technology, mold release films free of per- and poly-fluoroalkyl substances, and dicing films. The booth will present polishing pads, cleanroom wiping cloths, and resin materials for semiconductor manufacturing equipment. It will also feature water treatment membranes that help produce ultrapure water, and technologies for recovering valuable materials from semiconductor manufacturing processes and for reducing wastewater volume.

    TASMIT will exhibit its wafer inspection equipment system, while Toray Precision will showcase precision processing technologies for semiconductor manufacturing and inspection processes. Toray Research Center will introduce its advanced analytical technologies for semiconductor devices.

    Toray will keep leveraging its core technologies of synthetic organic and polymer chemistry, biotechnology, and nanotechnology to research and develop groundbreaking materials that can transform the world in keeping with its commitment to delivering new value and contributing to social progress.

    Booth overview

    (1)   Venue

    Booth No. E4908 (APCS Area) in East Exhibition Hall of Tokyo Big Sight

    (2) Exhibits:

    A.   Materials

    a.     Ecsaine™ industrial high-performance nonwoven fabric

    b.     Cleanroom wiping cloths

    c.     Polishing pad for various bare wafers

    d.     Durable Anti-static ABS resin TOYORAC PAREL™

    e.     Anti-Electrostatic grade TPS-AE

    f.      Toray polyamide-imide resin “TI Polymer”

    g.     PPS 3D-printed parts for semiconductor manufacturing equipment

    h.     Plastic materials for semiconductor manufacturing equipment

    i.      Semiconductor mold release films for high-end packaging applications

    j.      Self-adhesive olefin-based pressure-sensitive dicing films

    k.     Polyimide products (coating materials and photosensitive adhesive films)

    l.      Materials for advanced packaging (Under development)

    m.    Photosensitive polyimide for thick films with high aspect ratios

    n.     Temporary bonding materials for semiconductors (see news release 1)

    B.   Equipment

    a.    Optical and electronic wafer inspection equipment system

    b.   Precision processing technology supporting semiconductor manufacturing and inspection processes

    C.   Water treatment filters

    a.    High-rejection reverse osmosis membranes for ultrapure water production

    b.   Ultrafiltration and nanofiltration membranes that help recover valuable substances and reduce wastewater volume

    D.   Analytical services

    a.    Compositional, structural, and defect analysis

    References

    Toray’s semiconductor business website: https://www.semiconductor.toray/en/

    SEMICON Japan 2025 website: https://www.semiconjapan.org/en


    News releases
    1. November 27, 2025

    Toray Develops Temporary Bonding Material for Uniformly Ultra-Thin Semiconductor Wafers
    https://www.toray.com/news/article.html?contentId=ev63kbmm
     

     

    About Toray

    Toray Industries, Inc., is a global leader in advanced materials innovation, comprising more than 300 affiliated companies and approximately 48,000 employees worldwide. Since 1926, we have continuously expanded our business portfolio—from Fibers & Textiles, to Resins & Chemicals, Films, Electronics & Information Materials, Carbon Fiber Composite Materials, Pharmaceuticals & Medical Products, as well as Water Treatment & Environment. April 2026 marks the 100th anniversary of Toray’s founding. In line with our Corporate Philosophy, “Contributing to society through the creation of new value with innovative ideas, technologies and products,” we will commit to delivering fundamental solutions to global-scale challenges.

    For more information, please visit our website at www.toray.com.

    Press Contact

    [email protected]


 出展製品

  • 工業用ワイピングクロス 「トレシー」
    東レの超極細繊維を使用した高性能ワイピングクロス。 微細な油膜や汚れを拭き取る低発塵・高拭浄性の工業用清掃材料です。 ...

  • Ⅰ. トレシーとは

    「トレシー」は、東レ独自の技術から生まれた高性能マイクロファイバークロスであり、一般的な布やウエスでは除去が難しい目に見えない微細な汚れ・異物まで拭き取ることができる高機能ワイピングクロスです。電子部品、精密機器、光学製品、半導体、ガラス基板、検査工程など、清浄性が製品品質に直結する現場で幅広く使用されており、「高い拭き取り性能」「低発塵性」「再現性」「耐薬品性」に優れています。

    トレシーは、東レが開発した超極細繊維を使用したワイピングクロスのブランドです。最も細い繊維は約2µmで、人間の髪の毛(約70〜100µm)と比較して圧倒的に細く、これらが高密度に配列されています。この繊維構造により、目に見えない油膜や微細汚れまでも繊維間にしっかり取り込み、表面に残しにくいという特長があります。

    また、トレシーはすべて長繊維を使用しており、端面をヒートカット加工できるため、一般的な不織布ウエスなど短繊維製品と比べて、毛羽・繊維くずの発生が極めて少ない点も特長です。精密機器やクリーンルームなど、異物混入を嫌う工程でも安心して使用できます。

    Ⅱ. トレシーの特長

    超極細繊維による高いワイピング性能

    トレシーの最大の特長は、微細な汚れに対応できる拭き取り性能です。約2〜5µmの極細繊維が高密度に織り込まれることで、油膜・指紋・水滴・溶剤残渣などの膜状汚れを繊維間のミクロポケットに取り込み、拭き残しや再付着を抑制します。

    低発塵性(リントフリー性)

    工業用トレシーは、毛羽や繊維くずが落ちにくい低発塵性を備えています。長繊維とヒートカット加工により、ほつれや抜け落ちが起こりにくく、クリーン度が求められる現場でも安心して使用できます。また、超純水による洗浄処理や真空パック対応も可能であり、半導体・電子部品などの高い清浄度が要求される工程に適しています。

    液体・溶剤との併用が可能

    トレシーは水・油・IPA(イソプロピルアルコール)・アセトンなど、一般的な有機溶剤と併用が可能です。繊維間で液体を素早く吸収・保持し、乾拭き・湿拭きのどちらでも安定した拭き取り効果を発揮します。

    形状・サイズ・シリーズの多様性

    工業用トレシーは用途に合わせて多様な形態を展開しています。特注対応も可能で、作業効率の向上や異物混入リスクの低減に寄与します。

    ・カットクロス

    ・ロールタイプ

    ・手袋タイプ

    ・その他(特注形状)

    Ⅲ. 用途事例

    トレシーは、清浄度が製品品質に直結する以下のような現場で採用されています。

    ・半導体・電子部品製造

    微細粉塵・油膜・溶剤残渣など、不良原因となる汚れの除去に使用。製造装置の清掃からウエハ清掃まで幅広い工程で使用され、歩留まり向上に貢献します。

    ・ディスプレイ・ガラス基板

    付着異物や油膜を嫌うガラス基板、光学フィルムの清掃に最適。大判基板や高精度光学部品の仕上げ拭き用途に使用されます。

    ・光学レンズ・カメラ・精密機器

    異物付着がトラブルの原因となる光学レンズ、カメラ部品、センサー等の工程で使用され、高い清浄度を確保します。

    ・自動車部品・金型・装置メンテナンス

    金型の油膜除去、加工油の拭き取り、溶剤処理後の残渣除去など、一般的な布では除去が難しい汚れにも対応します。

    Ⅳ. シリーズ紹介

    【展開シリーズ】

    ・トレシーMK(ポリエステル100%/ニット)

    高い拭き取り性、高吸水・保水性、厚みのあるタイプ。

    ・トレシーMC(ポリエステル100%/平織)

    優れた拭き取り性に加え、寸法安定性に優れるタイプ。

    ・トレシーPK(ポリエステル/ナイロン/ニット)

    吸水・保水性と拭き取り性を両立した厚みのあるタイプ。

    ・トレシーPW(ポリエステル/ナイロン/綾織)

    寸法安定性と表面平滑性に優れ、膜状汚れに強いタイプ。

    ・MEワイパー(レギュラー繊維/ニット)

    高い吸水性と保液性を持つ、厚みのある汎用タイプ。

  • 逆浸透(RO)膜エレメント、ナノろ過(NF)膜エレメント、限外ろ過(UF)膜モジュール
    ・半導体製造に用いる超純水を多様な原水から製造できる高除去RO膜エレメント TBWシリーズ ・半導体製造工程から排出される有価物の回収、廃水減容に貢献する高耐久・高選択NF膜エレメント ・RO膜の運転安定化、プロセス費削減に貢献する高除去UF膜モジュール...

  • 1)高除去RO膜エレメント TBWシリーズ
    ・RO膜の微細孔のサイズを精密に制御し、低い運転圧力と高い溶質除去性能を両立しながら、中性分子成分の除去性能を大きく向上した新たなROエレメント。
    ・電気的に中性で粒子径が小さいシリカ、ホウ素、尿素などの中性分子や、低分子量の溶解性有機物の除去率向上により半導体の微細化に貢献。
    ・大量の超純水を使用する半導体製造工程において、超純水の水源として下廃水再生水の活用、海水の利用拡大における重要課題となる尿素、ホウ素の除去性を大幅に向上し、高品位の超純水の安定供給に貢献。

    2)高耐久・高選択NF膜エレメント
    ・有機合成化学、高分子化学、ナノテクノロジーを駆使し、強固な耐酸性構造と1nm以下の緻密な微細孔構造を兼ね備える架橋高分子膜を創出し、従来品比約5倍の耐酸性、耐アルカリ性と約1.5倍のイオン選択分離性を実現。
    ・半導体製造工程から排出される、有価金属などの有価物を高純度かつ高収率で回収。

    3)高除去UF膜モジュール
    ・10nm以下の微小な細孔の形成過程を定量的に解析し、ポリマー材料および製造プロセスを精密に制御することで孔径の微細化と微細孔の増量を同時に実現し、従来にない高い除去性と透水性を両立するUF膜を創出。
    ・RO膜の汚染源となるバイオポリマーの透過量が従来品比1/3以下となり、後段RO膜の安定運転、長寿命化に貢献。

  • スーパーエンプラ押出素材(PAI, PPS, PEEKなど)
    TPS押出事業は創設以来培ってきた押出成形技術を有し汎用プラスチックからスーパーエンプラに至る各種原料を丸棒や板、シートやなどさまざまな切削用素材を成形加工し、皆様へご提供。 ...

  • TPSTI 5000シリーズ<ポリアミドイミド>は、非結晶樹脂であり、優れた耐熱性と機械強度を持つイミド結合と良好な加工性、強靭性を示すアミド結合が組み合わされたスーパーエンジニアリングプラスチックです。

    TPSPPSは、結晶性樹脂で非常に耐熱性が高く(連続使用温度220°C程度)機械的強度、剛性、難燃性、耐薬品性、電気的特性および寸法安定性等が優れている樹脂です。
    TPS
    PEEKは、従来にない特性を備えた結晶性樹脂です。特徴は、耐熱性の高さにあり(連続使用温度260°C)、高い難燃性と同時に燃焼時の発煙や腐食性ガスの発生が極めて少ない樹脂です。耐熱水性、耐薬品性も非常に良好です。

  • 先端半導体向けポリイミド材料
    東レのポリイミド材料は、信頼性の高さから半導体素子の保護膜や絶縁膜用途に長年ご使用いただいております。従来のポリイミド材料に加えて、ハイブリッドボンディング用絶縁膜やガラスコア基板用TGV充填樹脂などの実装用材料、ウエハ薄膜化工程対応の仮貼り材料や厚膜対応のハイアスペクト感光性材料も新たに開発しております。...

  • 東レのポリイミド材料は、その高い信頼性から半導体素子の保護膜や絶縁膜用途に長年ご使用いただいています。1970年に耐熱絶縁ワニスを上市後、半導体素子の保護膜・絶縁膜用途に非感光性ポリイミドワニス セミコファイン™を1979年に、感光性ポリイミドワニス フォトニース™を1985年に上市しました。現在、ワニスタイプとシートタイプ(ファルダ™)、非感光性タイプと感光性タイプという幅広い製品グレードを取り揃えております。また、近年は、ハイブリッドボンディング用絶縁膜やガラスコア基板用TGV充填樹脂などの実装材料、さらにウエハ薄膜化工程対応の仮貼り材料や厚膜対応のハイアスペクト感光性材料も新たに開発しています。

    【ハイブリッドボンディング用絶縁膜】

    半導体パッケージの高密度化や多層化が進む中で、ハイブリッドボンディングは、チップ間の微細な電気的接続を実現するために必要とされています。従来の接合技術では、接合温度の高さや材料間の密着性、ボイド(空隙)発生、チップの反りなどが課題でした。

    今回開発したハイブリッドボンディング用絶縁膜は、250℃以下の低温で接合できることが大きな特徴です。これにより、熱によるデバイスへの負荷を軽減し、工程の柔軟性が向上します。また、SiO₂、Cu、ポリマーなど多様な材料に対して優れた密着性を発揮し、安定した接合品質を実現します。実装信頼性評価であるDaisy chainテストにおいても、Cu-Cu接合の歩留まりが概ね100%であることが確認できております。さらに、絶縁膜がパーティクル(微粒子)を包埋することでボイドの発生を抑制し、チップの反りも低減できるため、信頼性の向上に寄与します。これらの特性は、先端半導体の高集積化や高性能化を支える重要な要素となっており、ハイブリッドボンディング技術の普及とともに、今後ますます需要が高まると考えられます。

    【ガラスコア基板用TGV充填樹脂】

    ガラスコア基板は、半導体パッケージの高密度化や高周波対応が求められる中で注目されている技術です。高い寸法安定性や絶縁性、低誘電率などの特長を持ち、次世代半導体パッケージの信頼性向上と高性能化を支える重要な役割を果たします。しかしながら、ガラス特有の脆さからクラック(ひび割れ)が生じやすいという課題があります。そのため、加工時の熱負荷や応力を抑える材料開発が重要です。

    今回開発した低溶融粘度のシート材料は、120℃以下という低温でラミネートが可能であり、ボイド(空隙)が発生させずにTGV(Through Glass Via)へ均一に充填することができます。これにより、ガラス基板にクラックが生じるリスクを低減しつつ、工程の柔軟性と歩留まり向上や安定した電気的接続と高品質な実装が可能になると期待しています。このような材料技術は、ガラスコア基板の信頼性向上と高性能化を支え、次世代半導体パッケージの発展に貢献できると考えております。

    【ウエハ薄化向け仮貼り材料】

    本材料は、高弾性率ポリイミドを主成分とし、ウエハの薄膜化と厚み均一性を高いレベルで両立できる点が特徴です。半導体製造において、ウエハの薄膜化はデバイスの高集積化や性能向上に不可欠ですが、薄膜化工程ではウエハの反りや厚みのばらつきが課題となっていました。今回開発された新材料は、ポリイミドの高弾性率を活かすことで、ウエハ全体の厚み均一性を向上させ、極限まで薄くすることが可能となり、HBM(High Bandwidth Memory)やロジック半導体など、先端パッケージング分野への展開が期待できます。

    本材料は、弾性率を当社従来材料比で2.5倍に増加させたことで、バックグラインド工程中の半導体プロセス材料の変形が抑制され、ウエハにかかる圧力が均等になり、12インチウエハにおいて薄化後のTTV(Total Thickness Variation:ウエハの最も厚い部分と最も薄い部分の厚みの差)を1.0μm未満に抑えることに成功しました。さらに、本材料はPFASフリーおよびNMPフリーにも対応しております。今後は、既存の量産インフラを活用して量産体制を整え、2028年までの量産化を目指します。

    【厚膜×ハイアスペクト材料】

    フォトリソグラフィー法を用いて最大膜厚500um、アスペクト比36で加工可能なネガ型感光性材料です。ポリイミドの高い信頼性(耐熱性、耐薬品性、機械強度、絶縁性、X線耐性)を活かして、半導体/電子部品向けの絶縁材料やMEMSデバイス向けの構造材料への展開が期待できます。ネガ型フォトリソグラフィーによる微細加工が可能で、露光パターンにより自由な形状で一括した加工ができます。ラインナップとしては、厚さ500umまで対応可能なSTF-1000とPFASフリーのSTF-2000がございます。

    【ポリイミドコーディング材】

    ポリイミドコーティング材料には、大きく分けて非感光タイプのセミコファイン™と、感光タイプのフォトニース™がございます。優れた耐熱性、耐薬性、絶縁性から、半導体、電子部品の保護膜、絶縁層用途で多数の採用実績がございます。また、NMPフリー、PFASフリー品もラインアップしております。

    フォトニース™ は、ポリイミド系耐熱樹脂と感光性制御において独自の設計技術を結集して開発した感光性ポリイミドコーティング材料です。用途に応じた多様な製品を保有し、ポジ型“PWシリーズ”“LTシリーズ(低温硬化可能)”、ネガ型“PNシリーズ(低温硬化可能)”などのラインナップがございます。保護膜や再配線用途として長年ご使用いただいております。

    セミコファイン™ は、ポリイミド系耐熱樹脂において独自の設計技術を結集して開発したポリイミドコーティング材料です。用途に応じた多様な製品を保有し、長年にわたり多くの保護膜、絶縁膜として長年ご使用いただいております。

    【ポリイミド系感光性接着剤フィルム】

    東レの感光性ポリイミド技術とシート加工技術を活かして開発されたネガ型フォトレジスト材料で、永久膜用途にご使用いただけます。再配線用途やキャビティ形成用途に適したLPAシリーズと、5G関連用途に適した低誘電/低誘電正接材料がございます。

    LPAシリーズは、厚膜で高解像性を実現し、非平滑基板への埋まり込み性にも優れています。さらに、ポリイミド由来の高耐熱性と低温キュアを両立し、PFAS/NMPフリーの提供も可能です。低ストレスタイプ、高弾性タイプ、フォトリソ後に再接着可能なタイプなど、幅広い選択肢をご用意しています。

    低誘電/低誘電正接材料は、非感光タイプのLDAシリーズとネガ型感光タイプLPDAシリーズがございます。両シリーズとも、20GHzで誘電正接0.002以下を実現し、ポリイミド由来の高耐熱性に加え、高強度および高弾性であることが特徴です。

  • 基板用(Si/SiC etc.)精密研磨パッド
    レイノスとは 「レイノス」は、SiやSiC/GaAs/InPなどのベアウエハー、さらにLCDガラス、ブルーガラス(IRカット)、 フォトマスクブランクス、カバーガラス、光学レンズ、HDD基板、光ファイバーまで幅広い基材に適用可能な研磨パッドです。 スエードタイプ、含浸不織布タイプ、硬質ウレタンパッドタイプと3種類の研磨パッドをラインアップしています。...

  • Ⅰ. レイノスとは

    「レイノス」は、SiやSiC/GaAs/InPなどのベアウエハー、さらにLCDガラス、ブルーガラス(IRカット)、

    フォトマスクブランクス、カバーガラス、光学レンズ、HDD基板、光ファイバーまで幅広い基材に適用可能な研磨パッドです。

    スエードタイプ、含浸不織布タイプ、硬質ウレタンパッドタイプと3種類の研磨パッドをラインアップしています。

    Ⅱ. レイノスの特長

     研磨レートとキズの両立:研磨層の最適設計により、研磨レートを確保しつつ微小スクラッチを抑制。

    スラリーとのマッチング最適化:疎水性/親水性調整によりスラリー挙動を最適化し、均一な研磨レートを維持。

    薄手・高硬度設計:パッド自体の高硬度化・薄手化でエッジロールオフ低減と平坦性を改善。

    高レート×低ロールオフ(スエード系):最適なナップ層設計により高いリムーバル性と面内均一性/端部プロファイルの安定化を両立。

    プロセス適合性の広さ:Si/SiC/GaAs/InPはもちろん、ガラス・光学・金型まで、前処理〜最終仕上げまでの多段プロセスに適合。

    Ⅲ. 用途事例

    Si用途:最適樹脂設計。親水性/疎水性・開口径を最適化し、研磨レートを確保しながらスクラッチキズ抑制。

    SiC用途:最適な樹脂設計及び硬度処方による高研磨レート、高耐久性を実現。

    GaAs/InP用途:低スクラッチ化、化学機械的作用のバランス制御。

    光学ガラス/フォトマスク用途:面品位(ヘイズ・スクラッチ)改善と平坦性確保。薄手タイプもラインアップ。