AbsMIR ES 파티클 제거 필터는 나노 크기의 균일한 기공으로 구성된 습식 UPE 멤브레인을 적용하여 유체 내에 포함된 나노 크기의 콜로이드 파티클을 효율적으로 제거하도록 설계된 제품 입니다.
특히, 이 필터는 반도체 공정용 고순도 케미컬, 예를 들어 초순수, 알코올, 세정액, 포토레지스트, 희석제 및 유기용제에 적용하는 것을 염두하여 설계된 제품으로써 용출량을 최소화하기 위해 필터의 모든 부품은 고순도 원료로 구성되며, 반도체 제품 생산을 위한 고청정 클린룸에서 제조됩니다.
또한, 고유의 세정 기술을 기반으로 필터의 금속 용출량을 1ppb 이하로 관리하여 높은 청정도를보장합니다.