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江苏容道社半导体设备科技有限公司

吴江区,  苏州市 
China
http://www.rdssemic.cn
  • Booth: T9034

欢迎来到容道社!

Overview

容道社总部位于江苏苏州吴江汾湖高新区,专注半导体黄光区设备的研发、制造与工艺整合。专注先进板级封装(PLP)与半导体湿法工艺装备研发制造,提供单片板级封装515x510系列尺寸解决方案(先进板级封装(PLP/FOPLP)、Chiplet异质集成载板、大尺寸封装基板),有预清洗、匀胶、去边、显影、烘烤、冷盘等功能;已形成自主可控的产品矩阵,可覆盖晶圆制程与板级封装全工艺链,实现工厂自动化、信息化、智能化,助力客户提升产能与良率。产品涵盖I线、G线、H线光刻机,匀胶机、显影机、匀胶显影一体机、喷胶机,金属剥离去胶机、湿法刻蚀机、湿法清洗机,以及桌面仪器类系列设备。主要业务有三大块。桌面科研仪器、工业设备、光刻胶等湿化学品类。为设备的工艺验证与质量管控提供了一体化保障。
容道社秉持“有容乃大,道法自然,服务社会”的理念,深耕半导体前道设备领域,为行业自主国产化保驾护航。


  Press Releases

  • 容道社发展内核不在于单纯设备制造,而定位为全流程工艺解决方案服务商。研发生产全程锚定客户真实工艺诉求,赋予设备定制化价值与人文温度,立足客户生产视角优化方案,主动剔除冗余工艺以控制综合成本,针对差异化制程需求提供专属功能定制,关键工艺环节坚守品质底线绝不减配,实现效能与成本的最优平衡。
    容道社坚持产学研三位一体协同创新,深度赋能国内半导体高端制造赛道。立足行业高端人才缺口痛点,联合高校开发适配教学实训的专用设备,搭建实操实验载体,助力半导体专业人才培育储备。
    面向未来三至五年发展布局,容道社将依托现有成熟设备产品线持续深耕,以技术迭代、性能升级为核心主线,稳步打磨更高精度更贴合产业发展需求的半导体工艺设备,持续为国内半导体产业高质量发展注入核心装备力量。
  • 上海SEMI展会期间,容道社携全系核心工艺设备重磅亮相,展出包含匀胶机、烤胶机在内多款自主研发精密半导体装备,全方位展示容道社在光刻制程设备领域的研发实力与产业化成果,并接受化工仪器网专项专访。
    容道社表示,当下国内政策持续加码大力扶持企业与高校科研平台协同攻坚。容道社深度践行产学研一体化发展路径,联动各大高校、科研院所开展技术联合攻关,打通实验室前沿科研成果向工业化量产装备落地转化的关键链路,实现技术创新与产业需求深度匹配。
    依托政策红利与校企协同创新优势,容道社持续深耕国产精密半导体设备赛道,紧跟国内仪器国产化发展战略,不断打磨高性能、高适配性自主装备,以硬核技术实力助力国内半导体高端制造产业链自主可控,为行业国产化进程持续赋能。
  • (May 24, 2026)
  • (May 24, 2026)
  • (May 24, 2026)

  Products

  • 板级封装设备R515×510
    专为PLP板级封装打造的单片式自动化一体化设备,适配515mm×510mm标准基板,支持定制310*310mm规格,集成预清洗、匀胶、烤胶、显影、冷板等全套工艺单元,模块可按需选配。管路采用PFA、PTFE耐腐蚀材质,实时监控液位、负压,适配先进板级封装量产,兼顾柔性定制与洁净稳定生产需求。...

  • 本款R515×510板级封装(PLP)全自动设备,面向大尺寸面板级封装工艺打造,主打515mm×510mm大板基板自动化制程,同时支持按需定制310*310规格基板,集成预清洗、匀胶、去边、烤胶、冷板、显影全流程工艺单元,可根据客户产线需求选配模块,一站式满足先进面板封装光刻前道核心加工需求。
     
    设备采用三层立体式模块化布局,将电控区、工艺区、液路区分层独立设计,结构清晰便于日常检修维护。顶层集中布置工控机、电气元器件、交互通讯与供电系统;中层为核心工艺加工区,依托中央机械手完成基板全流程转运;底层布设全管路与化学品供给系统,配套液位、漏液实时监测,搭配接液托盘杜绝化学品泄漏,生产安全可控。
    设备搭载标准化EFEM自动上下料单元,采用FOUP盒式上料设计,可直接对接天车、AGV实现工厂无人化智能产线联动,同时兼容自动、手动双操作模式。
    内置6轴双臂精密机械手,基板定位精度达±0.1mm;配套全自动机械对中机构,对中精度±0.2mm,大幅降低基板偏移造成的工艺不良。各工艺单元配备自动遮光快门shutter,有效隔绝化学气体交叉污染,保障基板制程环境稳定。
    产线全域搭载高等级洁净控制体系,顶部FFU过滤精度≥99.995%@0.5μm,持续维持腔体高洁净环境,杜绝颗粒缺陷。
    全套ESD静电防护系统,静电消散时间<5s,全域平衡电压控制在±35V以内,全程保护精密基板与元器件不受静电损伤。
     
    设备材质采用半导体行业高耐腐标准:整机框架与载板选用304不锈钢,不起尘、耐酸碱腐蚀,清洁保养便捷;化学品管路接头采用PFA材质,从源头杜绝金属离子析出污染;基板接触面采用PPS、PI、PTFE特种高分子材料,质地柔软不划伤基板表面,保障产品良率。
    设备支持对接工厂MES生产管理系统,完整记录每一片基板全流程工艺数据,实现产品全生命周期追溯与产线智能数字化管控。全流程真空压力、排风风压数据实时数字化监控,工艺参数可视化,便于异常快速排查。
    底层化学品管路分区独立,配套漏液、液位双重监测预警,三层分区结构隔离电气与腐蚀化学品,大幅降低设备故障与安全隐患;整机尺寸7200×5500×2550mm,长宽高均可根据客户厂房空间按需调整,适配各类洁净车间布局。
    针对不同客户差异化工艺制程需求,本设备支持功能单元增减、基板尺寸、设备外形、化学品供给方案定制,灵活适配各类板级封装量产、研发中试产线,是先进PLP封装光刻工序核心一体化加工设备。
  • 光刻机RPA-600
    是适配4/5/6吋晶圆的国产精密光刻设备,支持i/h/g多波段曝光,兼容5/6/7吋掩模版,最小分辨率可达1.5μm。全流程集成高精度光学、自动对位与稳定曝光单元,兼顾高产能与微图形加工精度,是中小晶圆产线国产化光刻核心装备。...

  • RPA-600是容道社RDS自主研发的国产光刻设备,面向4/5/6英寸晶圆加工场景,专为功率器件、传感器、MEMS等特色工艺打造,打破中小尺寸光刻设备海外设备垄断,实现高精度、高产能、小型化一体化设计。
    设备搭载自研光学镜头,数值孔径0.158,极限分辨率1.5μm,可稳定完成精细线路图形转移。曝光波长覆盖i线365nm、h线405nm、g线436nm三波段,适配绝大部分正性、负性光刻胶工艺,兼容厚胶、薄胶、钝化层等多类制程需求。光学模块优化匀光光路,光强均匀性控制在3%以内,整片晶圆曝光剂量无明显偏差,有效降低线条尺寸偏移、图形色差等工艺不良。设备焦深区间6-8μm,针对凹凸形貌晶圆、厚膜工艺具备极强适配性
    设备配备全自动视觉对位模组,套刻对准精度3σ≤0.6μm,多层版图叠加工艺良率稳定。整机产率可达100WPH,满足中试线、量产线连续不间断生产需求。掩模台支持5/6/7英寸掩模版通用切换,无需更换硬件即可适配不同版图尺寸,大幅缩短换型调试时间。晶圆载台兼容4、5、6英寸标准硅片,单台设备覆盖多规格生产订单,适配柔性化多品种产线布局。
    RPA-600高度集成一体化机身,整机占地面积小于4㎡,对比传统进口光刻设备体积缩减近一半,中小型厂房、实验室、试点产线均可轻松部署,有效节约洁净车间昂贵空间。设备底部配备移动脚轮与减震支撑脚,便于车间移位、布局调整,自带整机减震结构,隔绝地面震动对光学精度的干扰,长期运行精度衰减极低。
    本设备广泛应用于MOSFET、IGBT、二极管、压力传感器、微流控芯片、光电器件等制造环节,替代同类型进口低端光刻设备。设备核心软硬件全部自主可控,售后维保、配件供应响应速度更快,大幅降低企业设备采购与运维成本。兼具实验室研发打样与批量量产双重能力,兼顾研发机构小批量试产与工厂大规模制造需求,是特色半导体产线国产化替代的核心光刻解决方案。
  • 全自动匀胶显影机R822/R840/R804
    主机由上料块CSB与工艺块PRB构成,兼容硅、碳化硅、蓝宝石等多种衬底,覆盖G-line、KrF、ArF等主流光刻工艺,广泛用于功率器件、光通讯、MEMS、射频集成等领域.整机结构紧凑稳定,工艺菜单可自定义存储,通讯端配置SECS/GEM适配模块,可对接工厂自动化产线,同时支持按客户特殊工艺需求定制开发,兼顾科研小批量与量产高节拍生产需求。...

  • 容道社全自动匀胶显影机(R822、R840、R804),核心适配6寸、8寸晶圆,机型拓展可覆盖8寸加工需求,是半导体光刻前段核心工艺设备。设备兼容硅片、玻璃、蓝宝石、砷化镓、氮化镓、碳化硅等各类半导体衬底,适配G-line、i-line、KrF、ArF、PI全系列光刻工艺,可满足正胶、负胶全套匀胶、显影制程,应用场景覆盖功率半导体、光通讯芯片、实验室科研、LED芯片、射频集成器件、MEMS微机电系统等行业,兼顾研发打样与规模化量产场景。
    设备主机模块化拆分,由上料块CSB、工艺块PRB两大单元组成,标准配置1EFFM、2C、2D、1AD、4CP、10LHP、2TRS多工艺工位,产能可根据客户工艺节拍定制优化,伺服电机系统完全匹配ARM高速转运需求。核心匀胶显影电机采用水冷设计,最高转速6000rpm,加速度可达30000rpm/s,转速精度±1rpm,保障胶膜均匀一致性。
    温控系统分层配置:标准LHP模块最高温180℃,选配HHP最高250℃、PCH配套控温单元,全部实现0.1℃精准微调,PID闭环控温稳定控温波动。胶泵、流量计均可依据客户光刻胶粘度、工艺流量需求选配,硬件兼容各类商用光刻胶耗材。
    整机搭载工业工控机搭配17寸触控显示屏,预装Windows可视化图形操作界面,支持程序可编程编辑。工艺菜单可自由编辑、存储、调用,全流程运行状态直观展示,人机交互便捷。系统内置完善视频实时监控、全流程操作日志记录功能,故障自动弹窗报警,配套多重安全防护装置,抗干扰能力强,日常维保便捷,大幅降低设备停机检修时长。
    通讯信息化层面标配以太网接口,搭载SECS/GEM标准适配模块,可直接对接工厂MES自动化系统,实现设备数据互通、远程产线管控,完全符合国际SEMI GEM行业规范,适配智能化无人工厂布局。厂务端预留标准化水、电、气、液I/O接口,现场安装对接简单高效。
    设备机械结构紧凑集成,长期连续运行稳定可靠,全流程设置多重安全联锁保护机制,规避晶圆碎片、工艺异常等生产风险。同时提供深度定制化服务,可根据客户特殊制程、特殊尺寸晶圆、特殊温区需求调整工位布局、增减工艺模块,适配差异化研发与量产需求,是覆盖宽光谱、多衬底、多工艺的通用性高端匀胶显影设备。
  • 全自动去胶剥离机RS12/RS8/RS6
    支持12吋及以下尺寸晶圆加工,集成浸泡、去胶、清洗三大功能单元广泛应用于IGBT、VCSEL、MEMS、LED、集成电路等领域。设备搭载六轴高精度传片机器人,具备火焰监测、视频监控多重安全防护,搭配六级过滤加二级沉淀金属回收系统。整机采用工控机搭配17寸触控屏,Windows可视化可编程系统,标配SECS/GEM通讯模块,可对接工厂自动化产线,支持干进干出全自动流转,全流程智能监控,同时预留标准化厂务接口,可根据客户工艺需求定制调整。...

  • 全自动去胶剥离机(RS12、RS8、RS6)是半导体剥离制程专用核心设备,最大兼容12寸晶圆,向下适配8寸、6寸等小尺寸晶片,覆盖多规格芯片生产需求。设备兼容Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC全品类半导体衬底,核心适配PAD lift-off剥离工艺,稳定满足≥1μm线宽精密制程,可用于功率器件IGBT、光通信VCSEL、MEMS微机电、LED芯片、通用集成电路等多行业生产与研发。整机集成浸泡、去胶、清洗三大独立工艺单元,产能可依据客户实际工艺节拍灵活调整,兼顾实验室小批量打样与工厂规模化量产。
    设备内部模块化布局清晰,包含LP晶圆片盒工位、六轴ROBOT传片机械手、IMM浸泡单元、ST去胶单元、SR清洗单元、一体化供液管路与主控系统,实现干进干出全自动晶片流转。
    工艺温控系统可稳定维持设定温度±2℃,离心电机空载最高转速4500rpm,最小调节1rpm,转速精度±2rpm,保障剥离后晶片表面均匀性。承载晶片的CHUCK采用多点支撑搭配边缘限位设计,配合MCA自动机械对中机构,有效降低碎片、偏移风险;废液端搭载6级过滤+2级沉淀金属回收结构,可回收制程贵金属材料,降低生产成本,兼顾环保与经济效益。
    设备配备全套工业安全防护机制,搭载全程运行视频监控、火焰实时监测装置,搭配主机灭火器、完备电气安全回路,从硬件层面规避化学品、高温、火情等生产隐患。各工艺单元均设置独立智能监控模块,实时采集温度、转速、药液流量、机械手位置等数据,异常工况自动报警停机,留存完整运行日志,便于故障追溯与设备维保。整机管路系统预留厂务供液接口,水电气液标准化I/O端口,现场布线、对接调试便捷高效。
    整机采用工业工控机搭配17寸触控显示屏,预装Windows图形化人机交互系统,支持工艺程序自主编辑、存储、调用,可编程逻辑适配多样化定制制程。通讯模块内置以太网与SECS/GEM适配组件,可直接对接工厂MES自动化管理系统,实现设备数据上传、远程状态监控、产线联动调度,完全契合半导体智能工厂标准化规范。
    设备机械结构集成度高、运行稳定,六轴多自由度机械手可完成精准取片、转片、输送全流程动作,取片采用片到片平稳转运方式,减少晶片划伤、污染风险。同时支持定制化改造,可根据客户特殊药液、特殊尺寸、高精密剥离需求调整单元布局、增减过滤模块,是通用性极强的精密半导体去胶剥离专用设备。
  • SC-6型匀胶机(旋涂仪)
    是容道社研发的小型精密旋涂设备,最大可处理150mm以内基片,转速区间100-12000rpm,转速分辨率1rpm,支持100-3000rpm/s宽幅加速度调节。.适配实验室研发、小批量试样光刻旋涂工艺,体积小巧易摆放,运行稳定、操作简单,满足各类光刻胶旋涂制膜需求。...

  • SC-6型匀胶机专为实验室精密旋涂场景打造,可处理≤150mm规格基片,覆盖2英寸、4寸、6寸晶片等主流试样尺寸。设备转速范围100-12000rpm,转速调节精度达1rpm,加速度可在100-3000rpm/s区间自由设定,单步最长运行时长3000秒,工艺调节自由度极高。
    设备实测膜厚均匀性表现优异:使用AZ1500光刻胶加工4寸晶圆,片内均匀误差±0.51%、片间±1.05%;采用SPR220胶液制备6寸晶圆,片内误差±1.18%、片间±1.86%,能够稳定产出厚度一致的光刻胶薄膜,满足高精度光刻实验要求。
    整机外壳采用镜面不锈钢材质,内腔选用进口耐腐蚀材料,可抵御各类光刻胶、有机溶剂腐蚀,清洁维护简单。设备外形紧凑,尺寸仅292mm×380mm×246mm,桌面式摆放,不占用实验室空间。标配10mm、25mm、2英寸三种真空载物盘,无需额外更换配件即可适配不同尺寸样品;机身优化防进胶、防堵胶结构,有效避免胶液渗入电机、管路造成堵塞损坏,延长设备使用寿命。
    设备搭载7寸全彩触摸屏人机交互界面,操作直观易懂。核心驱动采用工业级BLDC无刷电机搭配单片机闭环控制,转速输出平稳无抖动。支持单步、多段分步两种运行模式,可自主编辑并储存10组完整工艺程序,一键调取复用,大幅简化重复实验操作。
    可选升级高精度自动点胶模块,实现定量自动供胶,减少人工滴胶带来的膜厚偏差,提升实验一致性,适合长期标准化研发实验。
    SC-6匀胶机搭载双重安全互锁机制:真空开关与舱盖开盖联锁,运行中开盖会立即停机,防止高速旋转的基片飞出,规避碎片、胶液飞溅等安全隐患。整机电路、电机分区隔离,抗干扰能力强,长时间连续运行稳定低噪。
    本款旋涂仪定位高校实验室、科研院所、企业研发中心,用于光刻、薄膜制备、材料涂层等小试样研发场景。相较于大型量产匀胶设备,SC-6体型小巧、性价比高、调试便捷;高精度转速控制搭配优秀均匀性数据,兼顾实验精度与使用成本,同时支持功能定制升级,是半导体、光学材料实验室旋涂制膜的优选小型设备。
  • SC-8型匀胶机(旋涂仪)
    适配200mm及以内基片,转速20-10000rpm,分辨率1rpm,加速度最高可达50000rpm/s,单步最长3000秒。整机镜面不锈钢外壳搭配耐腐蚀内腔,采用PLC与伺服电机控制系统,7寸触控屏操作,支持正反旋转,可嵌入手套箱使用。设备可编程存储100组百段工艺,标配多款真空载物盘,搭载四路自动点胶端口,可选配背洗、去边胶、防溅罩清洗、显影模块。4/6/8寸晶圆膜厚均匀性表现优异,兼顾科研实验与小型工业制程,体积规整可定制拓展,安全稳定、重复精度高,是半导体实验室与中试产线通用精密旋涂设备。...

  • SC-8旋涂匀胶机可处理最大200mm基片,兼容2英寸、4寸、6寸、8寸各类晶片试样,适配多规格光刻实验与小批量中试生产。设备转速区间20-10000rpm,最小调节单位1rpm,加速度调节范围20-50000rpm/s,单段工艺最长运行3000秒,转速与加速曲线可调区间广,适配厚胶、薄胶等差异化旋涂需求。
    设备实测膜厚均匀性精度突出:4寸晶圆搭配RZJ304稀释胶,片内误差±0.48%、片间±0.52%;6寸晶圆使用AZ1500胶液,均匀误差片内±0.71%、片间±0.90%;8寸晶圆同等胶料下片内±0.90%、片间±1.08%,成膜厚度稳定,完全满足高精度光刻薄膜制备标准。
    整机采用镜面不锈钢外壳,内腔使用进口耐腐蚀材质,耐各类光刻胶、有机溶剂侵蚀,清洁保养便捷。设备整体尺寸410mm×508mm×296mm,结构紧凑,支持嵌入式安装入手套箱,降低操作高度,适配真空、惰性气体等特殊实验环境。机身搭载正反旋转功能,可优化边缘胶层分布,减少晶圆边缘残胶问题;标配10mm、25mm、2英寸三种真空载物盘,开箱即可适配小型样品与标准晶圆。
    设备采用工业PLC主控搭配高精度伺服电机驱动,转速输出稳定、工艺重复度高,配套7寸全彩触摸屏可视化操作界面,程序编辑、参数修改直观简单。系统支持存储100组工艺文件,每组可设置100段分步程序,工艺逻辑可自由拓展,多批次重复实验一键调用,大幅提升研发、量产效率。机身预留四路自动点胶端口,可按需升级多路自动定量点胶组件,摆脱人工滴胶带来的误差,实现全自动标准化旋涂流程。
    SC-8具备极强功能拓展能力,可根据客户制程需求加装多种工艺模块:选配背部清洗与去边胶单元,去除晶圆背面、边缘多余胶膜,适配工业级光刻生产;加装防溅罩清洗与显影一体化模块,实现旋涂、清洗、显影连贯作业,整合多道工序,缩减设备占地。全模块化拓展无需改动机身主体,灵活适配高校实验室、材料研发中心、半导体中试产线等不同使用场景。
    SC-8匀胶机区别于小型桌面设备,兼具科研高精度与工业拓展性,伺服电机保障长期运行稳定性,不锈钢机身耐化学腐蚀,嵌入式设计适配特种实验环境。设备广泛用于半导体光刻、光学薄膜、MEMS器件、新材料涂层等领域,既能满足实验室小批量试样研发,也可搭载拓展模块搭建小型自动化产线,是兼顾性价比、精度与可定制性的通用型中大型精密旋涂设备。

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